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岛津 AXIS SUPRA+ X射线光电子能谱仪(XPS)
2023-09-28 13:54  

仪器简介

X射线光电子能谱仪(XPS)主要用于材料表面(10nm)元素化学分析级元素化学价态分析配以氩离子溅射枪,可以开展材料深度剖析,获得元素及元素价态随深度变化的分布。XPS目前可广泛应用于能源、生物医药、钢铁、无机非金属材料、半导体金属材料、半导体器件、有机高分子材料的表面分析和结构解析。

主要技术指标

1.单色化X光源:单一靶面的水冷Al/Ag双阳极,最大功率600W(加速电压15kV,最大发射电流40mA),单色器罗兰圆500mm

2. Al单色XPSAg 3d5/2 峰半高全宽@强度):0.45eV@160kcps;大束斑能量分辨和灵敏度0.6eV@2.5Mcps

3.选择性分析区域束斑大小:15μm至大束斑(φ200μm以上)包含较大束斑(100120μm),中等束斑(6060μm)和小束班(1520μm);

4.能量扫描范围:-103200eV

5.荷电中和器绝缘体分析能力(PET O-C=OC 1s峰半高全宽@C-C/C-HC 1s峰强度):0.68eV@20kcps

6.电子能谱能量分析器:平均半径165mm,通过能(FAT/CAE模式)1400eV可调;

7.深度剖析离子枪:包含单离子刻蚀和团簇刻蚀,单离子模式,可是能量500eV5keV连续可调;托粗模式:刻蚀能量≥10keV,团簇中离子数目5003000个;离子源类型:单个Ar原子和团簇Ar双模式。

样品要求

1.预处理尺寸要求:块状/片状/薄膜:长宽厚不超出1 cm×1 cm×3 mm(磁性样品尽量小)(对块状样品或薄膜样品的测试面做好标记);粉末样品大于200目,不少于10mg,量少请用称量纸包好再装到管子里寄送。请勿用手触摸样品表面,会引入污染。制好样后请尽快密封,避免其他物质污染;

2.送样前样品需充分干燥,否则影响仪器真空度。高分子样品在送样前应进行干燥处理。若含有高挥发性分子等请务必烘烤。

3.样品含有硫或碘等卤族元素请务必填写或者提前告知,避免污染高真空系统;

4.样品在超高真空及在X射线、紫外线、电子束或Ar离子束照射下应稳定,不分解、不释放气体。


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